光刻機是制造芯片的核心設(shè)備，其工作原理類似于“投影曝光"。它通過一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)和精密控制，將掩模版上的電路圖形精確地縮小并投影到涂有光刻膠的硅片上，使光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。經(jīng)過后續(xù)的刻蝕、離子注入等工藝，最終在硅片上形成所需的晶體管和電路結(jié)構(gòu)。光刻機的技術(shù)水平直接決定了芯片的制程工藝和集成度，是衡量一個國家半導(dǎo)體制造業(yè)水平的關(guān)鍵標(biāo)志。

今日，雷博科儀隆重推出MA200-BE光刻機，以創(chuàng)新技術(shù)重塑精度邊界，致力于為先進(jìn)半導(dǎo)體制造提供更高效、更穩(wěn)定的國產(chǎn)化解決方案。