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電解雙噴減薄儀是應用于透射電子顯微鏡金屬試樣制備的專用設備。減薄儀采用計算機控制，半導體制冷，樣品制備過程中全程自動化。由于采用了半導體制冷技術，開機后可以在短時間內將電解液的溫度降低。減薄儀具有多種功能設置，可以根據您的要求選擇不同的工作參數，完成不同的工作程序。減薄儀運用半導體制冷技術，能夠迅速降低電解液溫度，免除應用液氮或干冰制冷所產生的麻煩和危險，并保持溫度穩定，確保樣品制備工藝規范統一。穿孔檢測采用CCD作為感光部件，能實時監控，大大提高了穿孔報警的靈敏度，同時也能...

影響涂膜的主要因素有涂布速度以及施加在涂膜器上的壓力等，由于人工涂出的涂層經常出現不一致，尤其是不同人之間產生的差異較大，這就給比較樣板之間的測試結果帶來了困難。涂膜機通過控制速度以及穩定的壓力來保證涂布涂膠效果，保證涂布涂膠的均勻性以及平穩性。它可以讓使用者可以在紙張、塑料、金屬、PVC、PET、布料、鋁合金板等平面各種材料進行涂布實驗，能在不同底材上涂布出精確的濕膜，大大提高了涂膜的重現性。涂膜機的操作方式：將儀器置于穩固的工作臺上，調整儀器底腳使儀器安放平穩。將機箱后側...

勻膠機一個典型的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉以及干燥(溶劑揮發)幾個步驟。勻膠機滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成薄層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速旋轉的同時進行滴膠，“動態”的作用是讓光刻膠容...

新型薄膜太陽能電池朝量產又邁進一步。26日，國際學術期刊Science《科學》發表了西北工業大學黃維院士團隊的研究成果Stabilizingblack-phaseformamidiniumperovskiteformationatroomtemperatureａndhighhumidity（《室溫、高濕度下制備穩定的甲脒基鈣鈣鈦礦》），此項研究提出，以一種多功能的“離子液體”作為溶劑來替代傳統的有毒的有機溶劑制備鈣鈦礦光伏材料。經過離子液體制備的FAPbI3材料，其內部結構變...

為了給客戶的客戶體驗，江蘇雷博微電子設備有限公司與蘇州施密科微電子設備有限公司（以下簡稱“雷博微電子”和“施密科微電子”）采取了合展的方式共同亮相本次上海半導體展覽會。雷博微電子本次展位號為N4-4117，展位面積54平米，整體展位風格以商務簡約為主。展會一經開始，雷博微電子展位便吸引了眾多客戶前來問詢。現場情況直擊雷博微電子此次攜SS8-2C2D全自動勻膠顯影機重磅亮相此次上海半導體展。該設備采用不銹鋼框架，內外鈑金為不銹鋼鏡面板，設備上部配備控制系統及FFU，中部為工藝單...

勻膠機顧名思義是一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設備，它的原理相對比較簡單，利用電機高速旋轉時所產生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面。勻膠機有很多稱謂如：勻膠臺、旋轉涂膜機、旋轉涂層機或者旋轉涂敷機等等，它的英文是SpinCoater旋轉涂膜的意思。勻膠機既然是科研開發上制備薄膜材料*的方法之一。使用者對于該設備大的期待就在于其能夠“均勻”地涂敷試液或者膠液。通常我們會用均一性和可重復性來衡量薄膜材料制備的好壞。...

自1988年*在上海舉辦以來，SEMICONChina已成為中國半導體行業盛事之一，囊括當今世界上半導體制造領域主要的設備及材料廠商。SEMICONChina見證了中國半導體制造業茁壯成長，加速發展的歷史，也必將為中國半導體制造業未來的強盛壯大作出貢獻。SEMI是一家服務于集成電路制造、平板顯示、納米技術、微電機系統（MEMS）、太陽能光伏和相關技術行業的非營利性行業協會，在*擁有2300多家會員公司。SEMI在*微電子及顯示器主要生產地區都設有代表處，并定期舉辦項目和活動。...